2024-09-02 18:07:52
透明导电薄膜的种类很多,主要有ITO,TCO,AZO等,其中ITO的性能比较好,ITO具有高透光率,低电阻率。目前ITO的制备方法主要是磁控溅射,要获得高质量的ITO薄膜,制备高密度、高纯度和高均匀性的ITO靶材是关键。高质量的成品ITO溅射靶应具有99%的相对密度。这样的靶材才具有较低电阻率、较高导热率及较高的机械强度。高密度靶可以在温度较低条件下在玻璃基片上溅射,获得较低电阻率和较高透光率的导电薄膜。甚至可以在有机材料上溅射ITO导电膜。目前ITO靶材的制备方法主要有热压法、冷等静压-烧结法、热等静压法。其中采用冷等静压-烧结法,其相对密度能达到99%以上,烧结温度高,保温时间长,制备工艺复杂。放电等离子烧结(SPS)是在脉冲电流作用下,粉末颗粒间放电,产生瞬间高温进行烧结。SPS技术具有快速、低温、高效率等优点。能在很低的烧结温度下,保温很短的时间制备高密度的材料。在反应溅射过程中,靶材表面的溅射通道区域被反应产物覆盖或反应产物被剥离,金属表面重新暴露。中国香港镀膜陶瓷靶材生产企业
溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷化合物等。北京溅射陶瓷靶材生产企业钙钛矿太阳电池在短短数十年间不断刷新转换效率。
AZO透明导电薄膜具有高可见光透过率和低电阻率的特点,因此可以作为平面显示器和太阳能平面电极材料,也可用在节能方面,如建筑玻璃表面和汽车玻璃表面近年来,随着液晶显示、触控面板、有机发光显示、太阳能电池等的发展,使得透明导电薄膜成为关键性材料之一。目前,常用的锡掺杂氧化钢(ITO)透明导电薄膜材料中的金属铟属于稀缺资源,开发具有透光、导电特性的“非铟”材料已成为研究的热点之一。由于氧化锌基(ZnO)透明导电薄膜价格较为低廉,且不具毒性,在发展上具有相当的优异性。因此,对于氧化锌薄膜材料及其制备技术的研发,引起了大家的重视。AZO薄膜是一种透明导电膜,具有与ITO薄膜相比拟的光学和电学特性,并具有制备工艺简单、价格低、无毒和稳定性好等特点,被认为是ITO薄膜的比较好替代材料。
陶瓷靶材和金属靶材各自优缺点:1.导电性:金属靶材都具有导电性,可以适应各种不同电源类型机台,而陶瓷靶材因为大部分不具备导电性,只能使用射频电源.2.导热性:金属靶材导热性能好,溅射时可以大功率运行.陶瓷靶材导热性较差,溅射时功率不宜过高.复合性:3.金属靶材内很难掺入其他陶瓷类物质,溅射后膜层功能比较单一.陶瓷靶材可以根据需要掺入不同金属及陶瓷类物质,溅射后可以形成多种物质组成的复合膜层,这点陶瓷靶材比金属靶材占优.冷等静压法制备ITO靶材优点。
研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生.ITO薄膜作为一种重要的透明导电氧化物半导体材料,因具有良好的导电性能及光透射率广泛应用于液晶显示、太阳能电池、静电屏蔽、电致发光等技术中,用氧化铟+氧化锡烧结体作为靶材,直流磁控反应溅射法制备ITO薄膜与用铟锡合金靶相比,具有沉积速度快,膜质优良,工艺易控等优点成为目前的主流?但是,此法成膜过程中会经常发生ITO靶材表面黑色化,生成黑色不规则球状节瘤,本文称此现象为靶材毒化,毒化使溅射速率下降,膜质劣化,迫使停机清理靶材表面后才能继续正常溅射,严重影响了镀膜效率。ITO靶材被广泛应用于各大行业之中,其主要应用分为:显示行业、薄膜太阳能电池、功能性玻璃,等三大领域。重庆镀膜陶瓷靶材咨询报价
溅射靶材的要求较传统材料行业高。中国香港镀膜陶瓷靶材生产企业
靶材是半导体、显示面板、异质结光伏领域等的关键材料,存在工艺不可替代性。据测算 2019年全球靶材市场规模在 160 亿美元左右,而国内总需求占比超 30%。本土厂商供给约占国内市场的 30%,以中低端产品为主,先进靶材主要从美日韩进口,当前国内头部企业靶材合计营收在 30-40 亿元范围,占国内总需求 10%左右。国家 863 计划、02 专项、进口关税、材料强国战略等政策大力扶持,国产替代势在必行且空间巨大,批量订单也将持续向前列梯队企业聚集。中国香港镀膜陶瓷靶材生产企业