2023-07-15 09:06:20
靶材绑定背板流程:一、什么是绑定绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要有三种的方式:压接、钎焊和导电胶。靶材绑定常用钎焊,钎料常用In、Sn、In–Sn,一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/㎝2。二、为什么要绑定 1、防止靶材受热不匀碎裂,例如ITO、SiO2、陶瓷等脆性靶材及烧结靶材;2、节省成本,防止变形,如靶材太贵,可将靶材做薄些,绑定背靶以防止变形。三、背靶的选择 1、常用无氧铜,导电性好,无氧铜的导热性比紫铜好;2、厚度适中,一般建议背靶厚度3mm左右。太厚,消耗部分磁强;太薄,容易变形。四、绑定过程 1、绑定前将靶材和背靶表面预处理2、将靶材和背靶放置在钎焊台上,升温到绑定温度3、将靶材和背靶金属化4、粘接靶材和背靶5、降温和后处理五,安徽功能性陶瓷靶材售价,安徽功能性陶瓷靶材售价、绑定靶材使用的注意事项1、溅射温度不宜太高2、电流要缓慢加大3、循环冷却水应低于35摄氏度4,安徽功能性陶瓷靶材售价、适宜的靶材致密度。 从整体上看,ITO在光电综合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的优势或将为靶材带来降本空间。安徽功能性陶瓷靶材售价
研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生.ITO薄膜作为一种重要的透明导电氧化物半导体材料,因具有良好的导电性能及光透射率广泛应用于液晶显示、太阳能电池、静电屏蔽、电致发光等技术中,用氧化铟+氧化锡烧结体作为靶材,直流磁控反应溅射法制备ITO薄膜与用铟锡合金靶相比,具有沉积速度快,膜质优良,工艺易控等优点成为目前的主流?但是,此法成膜过程中会经常发生ITO靶材表面黑色化,生成黑色不规则球状节瘤,本文称此现象为靶材毒化,毒化使溅射速率下降,膜质劣化,迫使停机清理靶材表面后才能继续正常溅射,严重影响了镀膜效率。
中国香港陶瓷靶材生产企业靶材主要由靶坯、背板等部分组成。
陶瓷靶材是一种重要的溅射靶材,广泛应用于各个领域的薄膜制备和表面处理。作为一种高纯度、高密度的材料,陶瓷靶材具有许多独特的特点和优势。首先,陶瓷靶材具有优异的化学稳定性和热稳定性,能够在高温和复杂的化学环境下保持稳定的性能。这使得陶瓷靶材在各种薄膜制备过程中能够提供稳定的材料源,确保薄膜的质量和性能。其次,陶瓷靶材具有良好的机械性能和热导性能。这使得陶瓷靶材在溅射过程中能够承受高能量的离子轰击和高温的热冲击,不易发生破裂和变形。同时,陶瓷靶材的高热导性能能够有效地散热,保持靶材表面的稳定温度,提高溅射过程的效率和稳定性。此外,陶瓷靶材具有优异的光学性能和电学性能。不同种类的陶瓷靶材具有不同的光学和电学特性,可以根据具体需求选择合适的靶材。例如,氧化物靶材可以用于制备透明导电膜、光学薄膜和光学器件,而金属靶材可以用于制备导电膜和磁性薄膜。陶瓷靶材具有丰富的种类和规格,能够满足不同行业和应用的需求。无论是光学薄膜、电子器件还是太阳能电池,陶瓷靶材都能提供高质量的材料源,帮助客户实现产品的优化和创新。我们公司致力于提供高质量的陶瓷靶材产品,满足客户的需求,推动行业的发展和进步。
靶材安装注意事项靶材安装过程中非常重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射腔体冷却壁之间建立很好的导热连接。如果冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲,背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响,导致在溅射过程中热量无法散发**终会造成靶材开裂或脱靶。为确保足够的导热性,可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意要仔细检查和明确所使用溅射***冷却壁的平整度,同时确保密封圈始终在位置上。由于所使用冷却水的洁净程度和设备运行过程中可能会产生的污垢会沉积在阴极冷却水槽内,所以在安装靶材时需要对阴极冷却水槽进行检查和清理,确保冷却水循环的顺畅和进出水口不会被堵塞。有些阴极设计与阳极的空隙较小,所以在安装靶材时需要确保阴极与阳极之间没有接触也不能存在导体,否则会产生短路。ITO靶材的制备方法主要有4种,分别为热压法、热等静压法、常温烧结法、冷等静压法。冷等静压优势突出。
主要PVD方法的特点:半导体、显示面板使用溅射镀膜法(1)金属提纯:靶材纯度要求高。金属提纯的主要方式有化学提纯与物理提纯,化学提纯主要分为湿法提纯与火法提纯,通过电解、热分解等方式析出主金属。物理提纯则是通过蒸发结晶、电迁移、真空熔融法等步骤提纯得到主金属。(2)制造加工:塑性变形、热处理、控制晶粒取向:需要根据下游应用领域的性能需求进行工艺设计,然后进行反复的塑性变形、热处理,需要精确地控制晶粒、晶向等关键指标,再经过焊接、机械加工、清洗干燥、真空包装等工序。靶材制造涉及的工序精细繁多,技术门槛高、设备投资大,具有规模化生产能力的企业数量相对较少。靶材制造的方法主要有熔炼法与粉末冶金法。熔炼法主要有真空感应熔炼、真空电弧熔炼、真空电子束熔炼等方法,通过机械加工将熔炼后的铸锭制备成靶材,该方法得到的靶材杂质含量低、密度高、可大型化、内部无气孔,但若两种合金熔点、密度差异较大则无法形成均匀合金靶材。粉末冶金法主要有热等静压法、热压法、冷压-烧结法三种方法,通过将各种原料粉混合再烧结成形的方式得到靶材,该方法优点是靶材成分较为均匀、机械性能好,缺点为含氧量较高。靶材相对密度对大面积镀膜的影响靶材的相对密度是靶材的实际密度与理论密度之比。安徽功能性陶瓷靶材售价
陶瓷靶材和金属靶材各自优缺点;安徽功能性陶瓷靶材售价
ITO靶材生产过程包括金属提纯和靶材制造两个主要环节。因高纯金属原料的品质影响靶材的导电性能等性状,对成膜的质量有较大影响,且靶材种类繁多,客户需求非标,定制属性明显。故而金属提纯环节技术壁垒及附加值均较高。其中铟属于稀散金属,因其具有可塑性、延展性、光渗透性和导电性等特点,而以化合物、合金的形式被广泛应用。目前,铟的主要应用领域是平板显示领域,包括ITO靶材及新兴的铟镓锌氧化物(IGZO)靶材,占全球铟消费量的80%;其次是半导体领域、焊料和合金领域、太阳能发电领域等。生产ITO靶材对于铟的纯度要求一般在4N5及以上,生产化合物半导体材料对于铟的纯度要求则更高,一般在6N及以上。安徽功能性陶瓷靶材售价
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